碟片放大,下一代EUV的共识选择?

日前,激光行业独角兽企业苏州中辉激光,已完成A+轮股权融资。

中辉激光是国内唯一采取“碟片路线”放大的固体激光公司,其承担的十四五国家重点研发计划重点专项“制造用高性能高功率皮秒激光器”任务,也是我国目前在增材制造与激光制造领域遇到的重大“卡脖子”难题。

据悉,中辉激光将在未来重点发力“千瓦级超快”,为中国的锂电、光伏(钙钛矿)、以及电力与航空航天领域的高端金属加工等关键工艺,提供世界领先水平的激光器与解决方案。

中辉激光联合创始人、首席技术官颜永振表示,即将于2023年内推出的1500W皮秒激光器平台,仅仅是助力中国先进制造的第一步。公司将不断攀升技术高峰,实现5000W以上的更高功率超快激光,为下一步的EUV光源国产化,提前做好工程化布局。对于此艰巨的历史任务,公司联合创始人、首席战略官章淼表示,公司本次融资正是为此目的,加强人才储备与团队建设。据悉,中辉激光的全球首台套千瓦超快解决方案,有望于2025年初交付,并将在此基础上初步确定国产EUV的工程化路线图。

相关背景

EUV:极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),英文简称EUV,是以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的下一代光刻技术,也是集成电路的最重要加工工具光刻机的核心光源。

碟片放大技术:起源于德国斯图加特大学上世纪90年代的公开发明,其优势在于”高功率“”高效率“”高光束质量“的完美结合,也是半导体领域中下一代光刻技术EUV 的公认的唯一路线。但碟片放大的工程实现非常难,在2021年前,全球也仅有德国通快公司一家实现了碟片激光器的产品化与工业化,直至中国的中辉激光作为全球第二家竞争对手出现。


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