良率是芯片制造中的重要指标。如果说先进制程代表晶圆厂技术的领先性，那么产品良率就代表着其产品的可靠性和经济性。在制造成本固定的情况下，良率越高单颗芯片成本越低。晶圆设计制造的每一步都影响着芯片...

日前，第49届SPIE Advanced Lithography + Patterning会议在美国加州圣何塞拉开帷幕。作为半导体行业关于光刻和图形成型技术最具影响力的国际会议，本届大会吸引了来自全球各地的专家、学者，带来近600篇论文...

10月25日，第七届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）在浙江丽水盛大开幕。在为期两天的会议中，数十家机构的嘉宾分别围绕计算光刻、DTCO、EUV、工艺...